参考价栻/p>面议
型号
PD-500C/600C磁控溅射镀膜设夆/span>品牌
普迪真空产地
湖北样本
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产品摘要
该设备配备了多个磁控溅射源,能够沉积金属、半导体、介质材料,并可用于溅射多层薄膜和共溅合金薄膜、/p>
产品介绍
设备特点9/p>
★一体化设计精细布局,更节省的空间和更精致的外形,可添加进样功能
??-4英寸磁控溅射靶,可溅?-8寸的硅片,托?英寸内均匀性优于?%~±5%
★西门子PLC+触摸屏手自动控制或电?PLC全自动控制可逈/p>
设备参数9/p>
★腔体尺寸(L×W×Hmm)?450×1250×1850/2200×1700×2200
★设备尺寸(L×W×Hmm)?00×500×500/600×600×500
★基片台:衬?*加热温度500-800ℂ/p>
★真空极限:5×10-5Pa
★抽速保压:8×10-4Pa?0min保压12小时?pa
★托盘均匀性优于?%~±5%
★溅射靶枪四个(2-3英寸/2-4英寸)溅射尺?-6英寸
暂无数据
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