参考价栻/p>面议
型号
PD-400C高真空磁控溅尃/span>品牌
普迪真空产地
湖北样本
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产品摘要
该磁控溅射系统的用户群体为科研院所与高校实验室,核心部件均采用欧美知名品牌,技术先进,性能稳定,自动化程度高可替代进口、/p>
产品介绍
设备特点9/p>
★兼容直流和射频溅射源,溅射金属、非金属及化合物薄膜
★良好的薄膜均匀性和重复性,可沉积金属、半导体和绝缘材料,可拓展沉积多层膜及复合膜
??英寸圆形靶枪,杆状安装,共焦向上溅射
设备参数9/p>
★腔体尺寸(L×W×Hmm)?50×1100×1900
★设备尺寸(L×W×Hmm)?00×400×380
★基片台?*温度 600℃控温误差?ℂ/p>
★真空极限:?E?5)Pa
★抽速保压:?E?4)Pa?0min保压12小时?pa
★托盘均匀性优于?%~±5%
★溅射靶枪三个(2-3英寸)溅射尺?-4英寸
暂无数据
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