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产品摘要
该设备采用热丝法化学气相沉积技术,主要用来生长金刚石膜、类金刚石膜、氮化硅和氧化硅膜等。该设备适合于小批量生长大尺寸片状多晶金刚石厚膜、刀具表面生长金刚石膜、纳米金刚石膜等、/p>
产品介绍
设备特点9/p>
★升降结构平稳,样品台水平度好,利于生长较均匀厚膜丝架采用特殊结构,热丝的平行度好能长期稳定工佛/p>
★更合理的气路布局及更贴合生产工艺的细节考虑,可长期稳定工作
★软件配置西门子PLC+10寸西门子触摸显示屏,操作界面友好,所有操作均可在触摸屏上完成
★实现?00-300mm基片范围内均匀沉积
设备参数9/p>
★腔体尺寸:φ450×H350mm/φ650×H500mm
★基片台?50mmx150mm/200mmx200mm
★温度:热丝温度1800?2500℃衬底温?00?1000?电源型式专用热丝电源15/25kw
暂无数据
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