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产品摘要
微波等离子体化学气相沉积设备具有性能先进、功能完善、结构合理,使用方便、安全可靠、外形美观,特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积(CVD);材料表面处理和改性;低温氧化物的生长等领域、/p>
产品介绍
设备特点9/p>
★微波系统微波频?450±25MHz 微波泄漏? mw/cm²
★真空系统工作气压范?~250Torr,自动稳压范围40~250Torr
★气路系统自带四路MFC,可扩展至六路
★自带缺水,缺气,电源缺相,等离子体偏移,过温过载,打火等自动保护,生产流程通过工艺配方自动控制,全自动温度控制,气压控制等
★软件配置西门子PLC+10寸西门子触摸显示屏,所有操作均可在触摸屏上完成
设备参数9/p>
★输出功率:0.6kw~6kw /0.6kw~15kw 连续可调
★生长台:沉积台?0mm,高度为110mm/沉积台为100mm,高度为110mm
★基片台:电动升降式水冷直径80mm钼基片台直径?0mm/电动升降式水冷直?00mm钼基片台直径?5mm
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