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设备型号:ZHD300
镀膜方式:多源金属蒸发
真空腔室结构:玻璃钟罩 + 不锈钢底座
真空腔室尺寸:Φ300mm×H360mm
加热温度:室温~ 250℃
基片台尺寸:Φ100mm
膜厚不均匀性:Φ80mm 范围内≤ ±5.0%
蒸发源:2组金属蒸发源
控制方式:PLC + 触摸屏控制
占地面积:主机 L1100mm×W800mm
总功率:≥ 5kW
适用范围:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备
1. 设备一体化设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;
2. 设备配备多组蒸发源,兼容有机蒸发与无机蒸发 , 多源共蒸获得复合膜。设计专业,功能强大,性能稳定;
3. 适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜,也可用于生产线前期工艺试验等。
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