看了电阻蒸发镀膜设备ZHD300.的用户又看了
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设备型号:ZHD300
镀膜方式:多源金属蒸发
真空腔室结构:玻璃钟 + 不锈钢底?/span>
真空腔室尺寸:?00mm×H360mm
加热温度:室温~ 250ℂ/span>
基片台尺寸:Φ100mm
膜厚不均匀性:Φ80mm 范围内≤ ±5.0%
蒸发源:2组金属蒸发源
控制方式:PLC + 触摸屏控刵/span>
占地面积:主 L1100mm×W800mm
总功率: 5kW
适用范围:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制夆/span>
1. 设备一体化设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低:/span>
2. 设备配备多组蒸发源,兼容有机蒸发与无机蒸 , 多源共蒸获得复合膜。设计专业,功能强大,性能稳定:/span>
3. 适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜,也可用于生产线前期工艺试验等、/span>
暂无数据
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