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大面积平板镀膜设夆/span>品牌
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真空系统:国产或进口分子?扩散?罗茨?机械泵高真空系统?nbsp;
极限真空:优?.0×10-4Pa?nbsp;
抽速:从大气到3.3×10-3Pa?0min?nbsp;升压率关?2小时后真空度?0Pa?nbsp;
工件架尺寸:可根据尺寸定制;
一、产品概?nbsp;
1、主要用途: 适合在大面积玻璃、亚克力板、PC表面沉积纳米级金属膜(金、银、铜、铝、铬等)、半导体膜(ITO、AZO等)、介质膜(氧化钛、氧化铬、氧化钨)、电致变色薄膜层等,广泛应用在光伏、光电、触摸屏、半导体、平板电极及建筑装饰玻璃等行业?nbsp;
2、产品优点及特点 采用磁控溅射方式,沉积速率快,膜层均匀致密,光亮度好,在大面积上的镀膜不均匀性≤±5%,特别适合有功能性要求的膜层制备及控制;例:镀膜导电膜层,电阻值均匀可控,可以控制为稳定电阻,也可控制为渐变电阻。加上自主开发全自动控制系统可实现一键化操作;保证产品镀膜性能连续稳定;设备采用模块化设计,可根据生产量增加镀膜模块及其他拓展模块,设备易拆卸、维护保养、/p>
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