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管式化学气相沉积设备 100/CVD200品牌
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管式化学气相沉积设备 100/CVD200 镀膜方式：化学气相沉积 真空腔室结构：高纯石英管/耐温耐腐蚀不锈钢； 真空腔室尺寸：?00mm×L1000mm、?00mm×L1600mm 基片台尺寸： 2英寸 / 定制生长车（分层）； 一、产品特点： 该设备是利用高温化学气相沉积技术，石英管生长室清洁无污染；多路气体控制合理；PID加热温度高控温。高真空环境，兼具真空退火炉功能 二、主要用途： 可制备用于光电子、石墨烯、微波器件等高纯薄膜 三、适用范围 适合于各单位实验室、高等院校实验室、教学等的项目科研、产品中试之用 四、技术参数：
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