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电子束镀膜设夆/span>品牌
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河北样本
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真空腔室:腔室内尺寸Φ500×600mm,不锈钢腔室配水线; 极限真空:空载优?.0×10-5Pa(设备空载抽真空24小时); 抽速:空载从大气抽?.0×10-4Pa?0min 漏率:设备升压率?.8Pa/h:/span>
特点/用途: TEMD500电子束镀膜设 TEMD500电子束镀膜设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点。配备E型电子束蒸发源和2组电阻蒸发源、可选配在线膜厚检测系统,以及选配离子源清洗及辅助沉积装置。具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。除了常规低熔点金属的蒸镀以外,TEMD500还可以蒸镀难熔金属和非金属氧化物及合金等材料,可应用于制备光电薄膜,半导体器件薄膜、铁电薄膜等 该系列设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等,深受广大用户好评、/span>
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