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高真空多靶镀膜系 JCPY500 真空溅射腔室:?00×H500mm 溅射室:8.0×10-5Pa(空载,经烘烤除气后); 工作方式:各靶可独立/顺次/共同工作,采用磁控靶从上向下溅射镀膜; 脉冲偏压?1000V?套;
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