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蒸发镀膜设夆/span>品牌
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蒸发镀膜设备的概念:
1.其厚度均匀性,也可理解为粗猎性,用光学膜(?/10波长表示)?00A)真空镀层的均匀性已相当高,可轻松控制可见光波长的粗糙度?/10,也就是说,真空镀膜,没有任何阻碍作用。但在原子层尺度下,要想达到10A甚至1A的均匀性,具体控制因素如下:膜层的不同情况,要做详细的镀膜说明、/p>
2.蒸发镀膜设备真空镀膜机中化学成分的一致?即在膜层内,由于化合物原子组尺寸较小,很容易形成不均,所以镀膜时,若镀不科学因此,实际表面的组分不是SITiO3,但也可以采用其它比例,得到的涂层与预期薄膜的化学成分无关。也就是真空镀的技术含量。以下也列出了些具体因素、/p>
3.格排列的均匀?这决定着膜是否为单晶、多晶、非晶态,是真空镀膜技术的一个研究热点、/p>
蒸发屁通常是加热的靶材,使表面组成原子团或离子蒸发、/p>
蒸发镀膜设备的厚度均匀性主要取决于:
1.衬底和靶材之间的晶格匹配程度,
2.衬底表面温度,
3.蒸发功率、速率.
4.真空?/p>
5.涂层时间、厚度尺寸、/p>
组分均匀?无法保证镀层成分的均匀性,可调因素相同,但由于原理的限制,对非单组分镀层的成分均匀性较?/p>
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