应用领域

� 适用尺寸� 适用2-12吋晶圅�/p>

� 适用领域�?nbsp;RCA清洗� 沉积前清洗， 蚀刻后清洗� CMP后清洗， 湿法� 蚀�?nbsp;EPI前清洗等

� 适用工艺� 颗粒去除、金属污染去除、有机物污染去除、湿法去胶、前道及后道清洗、氧化物刻蚀及去除、铝互连清洗、铜互连清洗

� 可配置药液： DHF� SC1� SC2�?nbsp;DIO3�?nbsp;DICO2�?nbsp;IPA� 背喷配置可供选择

产品优势

� 清洗药液独立控制� 无交叉污柒�/p>

� 喷嘴药液流量精确控制系统

� 自动换液� 补液

� 加热控制� 浓度控制� 流量控制� 压力控制� 过温保护� 漏液检知等

� 体积小， 使用成本低， 适用高校、科研院所筈�/p>