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苏州苏大维格科技集团股份有限公司
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产品简今/div>
Microlab科研型多功能直写光刻系统
技术特炸/p>
可选配光源:405nmLED?05nmLD?55nmDPSSL
支持4-8英寸幅面基板
高刷新空间光调制无掩模直冘/p>
自动聚焦
3D形貌曝光、干涉曝光、偏振曝先/p>
多模式曝?扫描式曝光、步进式曝光)
多任务模式自动运衋/p>
GDSII、BMP、STL等文件格式支?/p>
* 参数取决于选配工件台幅?nbsp; * 具体指标因工艺差异有所不同
应用示例
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