应用场景

针对4�?�?�?2寸晶圆、光罩Mask关键尺寸及套刻精度测量、�/p>

关键特�?/h4>

• 可同时兼�?*12寸晶圆及Mask的CD量测

• 支持UV、白光照明及光学系统

• 支持透射光（用于Mask）、反射光量测

• 光学系统基于Recipe的自动测野�/p>

• 支持灰度阈值、灰度变化率、直线拟合等多种线宽测量方法

• 多持非线性补偿功胼�/p>

• 支持低对比度下的线宽测量

• 支持通过GDS文件进行快速定位的测量

• 提供摇杆、专用控制键盘进行平台定位以及常用功能的快捷操作