建筑工程仪器
LINT-200GA型平整度测试?/p>
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测量原理(Measurement Principle)
激光干涉法(Laser Interfere)
适用范围(Scope of Application)
用于测量直径?"?"?" & 8"晶圆片,适用材料包括:碳化硅(SIC)、金刚石(Diamond)、氧化镓(GaOx)蓝宝石(Sapphire)、碳酸锂(LT)、铌酸锂(LN)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(LnP)、硅(Si)、锗(Ge)、陶?Ceramic)等二、三、四代半导体材料、玻?Glass) & 金属材料(Metal)
环境要求(Enviromental Requirments)
电源:AC220V/50HZ/1KW(带地线/空间无强磁干扰)
洁净度:美标百级(含)以上(环境内无酸碱气体(/p>
地面:隔振地靡/p>
?湿度?0℃???0%;无水气凝结
参数范围(Specification)
参数(Parameter(/p> |
数值(Value(/p> |
精度(Accuracy) |
±0.05μm |
重复精度(Repeatability(/p> |
0.015μm |
分辨率(Resolution(/p> |
0.005μm |
计算点数(Measured data points(/p> |
230000 |
可测量晶片尺寸(Part Range(/p> |
4"/6"/8" |
厚度范围(Thickness Range(/p> |
100~1500μm |
厚度测量精度(Accuracy for Thickness(/p> |
±0.5μm |
测试速度(Measurment Speed(/p> |
80Ps/H |
测试结果(Test Result(/p>
图形和数据(2D Drawing/3D Graphics & Data(/p>
查询结果(Query Result )
暂无数据
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