建筑工程仪器
LINT-208G自动型WAFER平坦度测试仪
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测量原理
激光干涉法适用范围
可用于测量工件尺寸为 Φ2---Φ8(INCH)直径的圆型晶片
测量精度及量稊/p>
1、关于厚?/p>
厚度量程?00---2000um,测量精度与 WAFER 表面光洁度有关,即: 测量重复精度(砷化镓等二代半导体类双拋表 WAFER):±0.3um ; 测量重复精度(碳化硅等三代半导体类研磨表 WAFER( ±0.5um ; 测量重复精度(蓝宝石类单拋表 WAFER):±0.5um ;
2、关于平面度/表面形态参数测量精?/p>
测量精度:?.06μm 重复性精度:±0.03μm 分辨率:±0.005μm
像素点数:≥250000
3、分选速度
为了保证不造成 WAFER 表面造成损伤,研究人员建议的安全分选速度为: 100 ?小时左右、/p>
暂无数据
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