介绍:硅基氮化镓(GaN-on-Si)外延是在硅衬底上生长氮化镓薄膜的技术,结合了GaN的高性能和硅衬底的低成本优势、/p>
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应用:用于高效电源转换器、电动汽车和工业电机驱动的功率电子器件;适用?G基站、雷达和卫星通信等射频器件;用于高亮度LED,提升发光效率等、/p>
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硅基氮化镓外延衬底Tempalte?~8inch(/strong> |
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衬底直径 |
50.8mm |
100mm |
150mm |
200mm |
硅衬底厚?/p> |
1000μm |
1000μm |
1000μm |
1150μm |
硅衬底表靡/p> |
Polished/Etched |
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硅衬底晶吐/p> |
P(111) |
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外延导电类型 |
N-type |
P-type |
UID |
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外延掺杂元素 |
Si-doping |
Mg-doping |
Undoped |
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外延层厚?/p> |
? um |
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外延层厚度均匀?/p> |
?% |
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外延层表靡/p> |
RMS?nm |
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外延结构国/p> |