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产品详情
碳化硅外延P-Type
产品简今/div>

介绍:碳化硅(SiC)外延P型是通过在SiC衬底上生长掺杂受主杂质(如铝或硼)的外延层实现的,具有宽禁带、高导热性和高击穿电场等特性、/p>

应用:应用于功率电子(高效电源转换器、电动汽车和工业电机驱动)、高温器件、IGBT(电动汽车和电力系统)、BJT(高功率放大和开关应用)和射频器件(5G基站和雷达)等领域有广泛应用,特别适合高功率、高频和高温环境、/p>

产品规格?/span>


⠀⠀

碳化硅P型外延衬底(2~8inch(/strong>

衬底直径

2英寸-50.8mm

4英寸-100mm

6英寸-150mm

8英寸-200mm

碳化硅衬底厚?/p>

350μm

350μm

350μm

500μm

碳化硅衬底晶吐/p>

Off-Axis?°toward <11-20>±0.5°

碳化硅衬底电阻率

0.014?.028 Ω•cm


外延导电类型

P-type

掺杂元素

Al-doping

外延层厚?/p>

? um

外延层厚度均匀?/p>

?%

外延层表靡/p>

RMS?nm

外延结构国/p>


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