扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺，可用�?-8英寸工艺尺寸、�/p>

控制系统特点

� 工艺曲线的自动运行控制功胼�/p>

� 可存储多组PID参数供系统运行调用功胼�/p>

� 系统故障自诊功能

� 停电后断点继续运行功能等筈�/p>

� 具有自主知识产权的软件系�?良好的人机界靡�/p>

� 具有多点温度补偿

� 具有多种故障报警及各种安全互锁保护功胼�/p>

★支持SECS/GEM通讯

★该系统可根据用户的特殊要求增减或开发相应的功能

主要技术指栆�/p>

� 晶圆尺寸:4~8英寸

� 工艺管数:1~4�?�?/p>

� 工作温度范围:400℃~1286ℂ�/p>

� 恒温区长�?300~1500mm

� 单点温度稳定�?+0.5�?24h

� **可控升温速度:15�?min

� **降温速度:5�?min

★可为用户量身定制非标准产品