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ALD原子层沉积设?SVT
产品简今/div>

美国SVT公司ALD原子层沉积系绞/strong>

?990年来薄膜淀积设?*制造商、/p>

拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发、/p>

提供广泛的服务,包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制

设备制造和工艺技术的高度结合,为客户提供可靠的技术服加/p>

实验?台应用淀积设备生长出***的材斘/p>

多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市圹/p>

在薄膜淀积领域拥有超?20台设备的**供应商、/p>

NorthStar ALD系统介绍9/strong>

NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积、/p>

每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为广泛、/p>

设备的快速舱口盖或装载室(可选件)使样品操作快捷方便、/p>

NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来,还能连接多种测量仪器、/p>

原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性、/p>

可以直接升级至超高真穹/p>

提供工艺演示以及工艺培训服务

为潜在客户提供免费样品测试、/p>

应用领域9/strong>

High-K电介?/p>

纳米涂层

MEMS

光子晶体

扩散阻挡屁/p>

器件封装

表面改性层

技术参数:

为科研客户量身打?**的原子层沉积系统、/p>

提供4"?"?"?2"等多种尺寸的样品平台、/p>

针对客户的需求,提供多种输气设计、/p>

---可控真空? 1 Torr to UHV

---气道加热

---气体快速进凹/p>

---样品尺寸: 4in standard optional 12in

---基底加热: up to 300 ℃, optional higher temp

主要特点9/strong>

*安全的设计,多样化的配置,全方位的测试手段、/p>

精确的控制手段打?*的成膜质量。强大的科研团队铸就**的科技实力、/p>

---气体离子匕/p>

---臭氧输送装?/p>

---石英振荡?/p>

---四重质量分光讠/p>

---实时温度显示

---椭偏?/p>

---进样

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